特許
J-GLOBAL ID：200903037920060427
ドライエッチング装置およびドライエッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-007155
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204505
出願日： 1998年01月19日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】 ウエハ面内におけるエッチング均一性の良いドライエッチングを行えるようにするとともに、エッチング特性の異なる被エッチング物でも同一装置でエッチング均一性良くドライエッチングできるようにする。【解決手段】 チャンバ2内にウエハ保持用のステージ7が設けられ、ステージ7の上面に第1の不活性なガスの第1噴き出し口8が、ステージ7の上面にウエハ30を保持した状態でウエハ30に覆われるように形成されてなるドライエッチング装置1において、ステージ7の上面でかつ第1噴き出し口8よりもステージ7の周縁側に、第2の不活性なガスの第2噴き出し口9が、ステージ7の上面にウエハ30を保持した状態でウエハ30の周縁部に沿うように形成されているとともに、ウエハ30の周縁部に一部が覆われかつ残部が外部に露出するように形成されている。
請求項（抜粋）：
チャンバ内にウエハ保持用のステージが設けられ、該ステージの上面に第1の不活性なガスの第1噴き出し口が、ステージの上面にウエハを保持した状態で該ウエハに覆われるように形成されてなるドライエッチング装置において、前記ステージの上面でかつ前記第1噴き出し口よりもステージの周縁側に、第2の不活性なガスの第2噴き出し口が形成され、前記第2噴き出し口は、前記ステージの上面にウエハを保持した状態で該ウエハの周縁部に沿うように形成されているとともに、ウエハの周縁部に一部が覆われかつ残部が外部に露出するように形成されていることを特徴とするドライエッチング装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 B
, C23F 4/00 A
