特許
J-GLOBAL ID：200903037922382499
X線分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-195944
公開番号（公開出願番号）：特開平9-021766
出願日： 1995年07月07日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：
【要約】【目的】試料の2次元的な濃度や膜厚の分布を、短時間に正確に分析できるX線分析方法を提供する。【構成】試料3から発生した2次X線8を、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通路を束ねた分光前キャピラリー型ソーラスリット16a,16bを通過させ、分光素子10で回折させ、分光後キャピラリー型ソーラスリット20a,20bを通過させ、2次元情報の得られる検出手段13に入射させ、その検出手段13での検出結果に基づいて、試料3表面について2次元的な分析を行う。
請求項（抜粋）：
試料に1次X線を照射して試料から発生した2次X線に基づいて試料の分析を行うX線分析方法において、試料から発生した2次X線を、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通路を束ねた分光前キャピラリー型ソーラスリットに入射させ、その分光前キャピラリー型ソーラスリットを通過した2次X線を分光素子に入射させて回折させ、その回折した2次X線を、軸方向に延びる多数の細長い筒状の通路を束ねた分光後キャピラリー型ソーラスリットに入射させ、その分光後キャピラリー型ソーラスリットを通過した2次X線を2次元情報の得られる検出手段に入射させ、その検出手段での検出結果に基づいて、試料表面について2次元的な分析を行うことを特徴とするX線分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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