特許

J-GLOBAL ID：200903037924363092

水素水製造装置

発明者： 平本 紳二
出願人/特許権者： 株式会社ノーリツ
代理人 (1件)： 中野 雅房
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-367381
公開番号（公開出願番号）：特開2006-167683
出願日： 2004年12月20日
公開日（公表日）： 2006年06月29日
要約：

【課題】 本発明の目的とするところは、気液混合タンク内の水を蒸発させることによって得た蒸留水を電解槽へ補水することによって、外部から電解槽への補水の必要がない水素水製造装置を提供する。【解決手段】 浴槽113内の浴水と、電解槽126内に溜めた電解液中の水を電気分解して発生させた水素ガスを気液混合タンク112内に供給する。浴水は気液混合タンク112内で水素ガスが溶解されて再び浴槽113内に噴出される。水素ガスを発生させることにより減少した電解液の補水は、気液混合タンク112内に設けたヒーター136で浴水を加熱して蒸発させ、冷却器137で冷却して得た蒸留水を電解槽126に流し込むことにより補水される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

気液混合タンクと、温水を前記気液混合タンクに注入する第1の水流路と、前記気液混合タンク内の温水を送り出す第2の水流路と、前記両水流路及び前記気液混合タンクに温水を通過させるためのポンプと、水素ガスを発生させるための電解槽と、前記電解槽から前記気液混合タンクに水素ガスを供給する水素ガス供給管とを備えた水素水製造装置において、 前記気液混合タンク内にヒーターを設け、 前記電解槽内への補水は、前記ヒーターにより前記気液混合タンク内の水を加熱して蒸留して得た蒸留水を前記電解槽内へ供給することにより行うことを特徴とする水素水製造装置。

IPC (4件)：

C02F 1/68 ,  A47K 3/00 ,  C25B 1/04 ,  C25B 9/00

FI (8件)：

C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510H ,  C02F1/68 530D ,  C02F1/68 540E ,  A47K3/00 E ,  A47K3/00 Z ,  C25B1/04 ,  C25B9/00 A

Fターム (10件)：

2D005FA00 ,  4K021AA01 ,  4K021BA02 ,  4K021BC01 ,  4K021BC03 ,  4K021CA08 ,  4K021CA10 ,  4K021DB03 ,  4K021DB40 ,  4K021DC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特願2004-66071号公報
  
• 洗浄機能付き連続式電解イオン水生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-020125   出願人：赤井電機株式会社