特許
J-GLOBAL ID:200903037934110591

形状シミュレーション方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 若林 忠
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-328640
公開番号(公開出願番号):特開平9-171994
出願日: 1995年12月18日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】【課題】被エッチング材料の表面での素反応を考慮しつつ、プラズマエッチングによるエッチング形状を短い計算時間で高精度に求める。【解決手段】バルクプラズマ解析部11によってバルクプラズマを解析する。シースプラズマ解析部12により、バルクプラズマの解析結果を用いてシースプラズマを解析し、モンテカルロ法によって入射粒子を決定する。そして、表面反応部13によって、被エッチング材料の表面状態に応じ、入射粒子と衝突することになる吸着種の種類をモンテカルロ法で決定し、入射粒子と吸着種の組合せからモンテカルロ法により反応の種類を決定し、表面反応をシミュレートする。形状計算部14において、表面反応部13で決定された反応の種類に応じ、ストリングモデルを用いて被エッチング材料の形状変化を計算する。
請求項(抜粋):
プラズマエッチングによりエッチングされた被エッチング材料の形状を解析する形状シミュレーション方法において、モンテカルロ法を使用し、粒子密度に基づき、プラズマからの入射粒子の種類を第1の乱数を用いて決定する粒子決定工程と、前記被エッチング材料の表面状態に基づき、前記被エッチング材料表面の吸着種であって前記入射粒子が衝突することになる吸着種を第2の乱数を用いて決定する吸着種決定工程と、反応の種類ごとの反応定数に基づき、前記入射粒子及び前記決定された吸着種の間の反応の種類を第3の乱数を用いて決定する反応決定工程とを有し、前記反応決定工程で決定された反応の種類に応じて前記被エッチング材料の形状を計算することを特徴とする形状シミュレーション方法。
IPC (2件):
H01L 21/3065 ,  C23F 4/00
FI (2件):
H01L 21/302 A ,  C23F 4/00 A

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