基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-354213
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182926
出願日： 1998年12月14日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】フットプリントの低減化および低コスト化を図りつつ所定の温度に調整された処理液を用いて基板に均一な処理を行うことができる基板処理装置を提供することである。【解決手段】現像装置は、装置本体部100および別置キャビネット200により構成される。装置本体部100は処理部1および中継ボックス10を備える。別置キャビネット200は温調器20、温調集合ボックス30および現像液バッファタンク70を備える。別置キャビネット200の温調集合ボックス30と装置本体部100の中継ボックス10とは二重配管63により接続される。二重配管63は内側の現像液配管43および外側の恒温水配管53からなる二重構造を有する。中継ボックス10は二重配管60を介して処理部1の現像液吐出ノズル4に接続される。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、処理液を用いて基板に処理を行う処理部および処理液を前記処理部に導く処理液供給経路を含む装置本体部と、前記装置本体部とは別個に設けられ、処理液を供給する処理液供給手段および所定の温度に調整された恒温水を供給する恒温水供給手段を含む別置収納部と、前記別置収納部と前記装置本体部との間に接続され、前記別置収納部の前記処理液供給手段から供給される処理液を前記装置本体部の前記処理液供給経路に導く第1の内側管路および前記第1の内側管路の外側を取り囲むように設けられかつ前記別置収納部の前記恒温水供給手段から供給される恒温水を前記第1の内側管路の外周面に沿って流動させる第1の外側管路を有する第1の供給配管とを備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (2件)：

H01L 21/30 569 C , G03F 7/30 501

Fターム (5件)：

2H096GA01 , 5F046JA03 , 5F046JA24 , 5F046LA03 , 5F046LA13

前のページに戻る