特許

J-GLOBAL ID：200903037941345103

磁気ヘッドの製造方法

発明者： 江口 裕也
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 松隈 秀盛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-138855
公開番号（公開出願番号）：特開平9-320012
出願日： 1996年05月31日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 磁気ヘッドのトラック幅を高精度に製造することができる磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 磁気ギャップ近傍に金属磁性膜が形成され、金属磁性膜の膜厚によってトラック幅が規定されてなる磁気ヘッドを製造する際に、所定の精度に設定された測定器を用いてダミー基板の重量を測定し、ダミー基板の所定面積上に金属磁性膜を成膜した後のダミー基板の重量を前記測定器を用いて測定し、ダミー基板の重量と金属磁性膜が成膜されたダミー基板の重量から金属磁性膜の重量を求め、この金属磁性膜の重量から成膜装置の単位成膜時間当たりの成膜厚さを求め、成膜時間を設定して所望の膜厚の金属磁性膜を形成して磁気ヘッドを製造する。

請求項（抜粋）：

磁気ギャップ近傍に金属磁性膜が形成され、該金属磁性膜の膜厚によってトラック幅が規定されてなる磁気ヘッドを製造する際に、所定の精度に設定された測定器を用いてダミー基板の重量を測定し、上記ダミー基板の所定面積上に金属磁性膜を成膜した後の上記ダミー基板の重量を前記測定器を用いて測定し、上記ダミー基板の重量と上記金属磁性膜が成膜された上記ダミー基板の重量から金属磁性膜の重量を求め、該金属磁性膜の重量から成膜装置の単位成膜時間当たりの成膜厚さを求め、成膜時間を設定して所望の膜厚の金属磁性膜を形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。

IPC (4件)：

G11B 5/147 ,  C23C 14/54 ,  G01B 21/08 ,  H01F 41/20

FI (4件)：

G11B 5/147 ,  C23C 14/54 F ,  G01B 21/08 ,  H01F 41/20