特許
J-GLOBAL ID:200903037949917467

高速原子注入装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-317613
公開番号(公開出願番号):特開平8-152500
出願日: 1994年11月28日
公開日(公表日): 1996年06月11日
要約:
【要約】【目的】 半導体ウエハにドーパントを注入する方法として、電荷を有するイオンの代わりに、電荷を有しない電気的に中性な高速原子を注入する装置を提供する。【構成】 イオン源5と、該イオン源から生成されたイオンを加速する手段6と、該加速されたイオンが注入されるべき試料4を搭載する試料台3とを備えたイオン注入装置に該イオン源と該試料台の中間にイオン中和器21を備え、該イオン中和器は1×10-4 Torr 以上で、1×10-1 Torr 以下のガス圧のガスを溜める容器と、該容器に上記加速されたイオンの入射孔25と高速原子の放出孔26を備える構造であり、該イオンの電荷を中和して電気的中性の高速原子を発生させる機能を有し、イオンに代わって高速原子を上記試料に注入する。
請求項(抜粋):
イオン源と、該イオン源から生成されたイオンを加速する手段と、該加速されたイオンが注入されるべき試料を搭載する試料台とを備えたイオン注入装置に、該イオン源と該試料台の中間にイオン中和器を備え、該イオン中和器は1×10-4 Torr 以上で、1×10-1 Torr 以下のガス圧のガスを溜める容器と、該容器に上記加速されたイオンの入射孔と高速原子の放出孔を備える構造であり、該イオンの電荷を中和して電気的中性の高速原子を発生させる機能を有し、イオンに代わって高速原子を上記試料に注入することを特徴とする高速原子注入装置。
IPC (5件):
G21K 5/04 ,  G21K 1/14 ,  H01J 37/317 ,  H01L 21/265 ,  H05H 3/02

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