特許

J-GLOBAL ID：200903037954108690

複合Ni微粒子、その製造方法及び製造装置

発明者： 尾鍋 和憲 ,  鎌田 弘之
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 藤巻 正憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-022885
公開番号（公開出願番号）：特開2004-232036
出願日： 2003年01月30日
公開日（公表日）： 2004年08月19日
要約：

【課題】平均粒径が0.2μm以下、特に0.1μm以下の超微粒子であっても、焼成過程におけるデラミネーションを防止でき、積層セラミックコンデンサ等の超微粒子応用品の薄層化が可能な複合Ni微粒子、その製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】複合Ni微粒子は、Ni又はNi合金の微粒子の表面に、Si、Si3N4及びSiO2からなる群から選択された1種の材料が1乃至5nmの厚さで被覆されており、平均粒径が0.07乃至0.50μmである。Ni微粒子の原料はNiCl2を気化させた気化ガスであり、被覆材の原料はSiCl4を気化させた気化ガスを含む。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

Ni又はNi合金の微粒子の表面に、Si、Si3N4及びSiO2からなる群から選択された1種の材料が1乃至5nmの厚さで被覆されており、平均粒径が0.07乃至0.50μmであることを特徴とする複合Ni微粒子。

IPC (4件)：

B22F1/02 ,  B22F1/00 ,  B22F9/28 ,  H01G4/12

FI (4件)：

B22F1/02 D ,  B22F1/00 M ,  B22F9/28 Z ,  H01G4/12 361

Fターム (17件)：

4K017AA03 ,  4K017AA06 ,  4K017BA03 ,  4K017BB16 ,  4K017BB17 ,  4K017CA07 ,  4K017DA01 ,  4K017EK03 ,  4K017FB05 ,  4K018BA04 ,  4K018BB04 ,  4K018BC28 ,  4K018BD04 ,  5E001AB03 ,  5E001AC09 ,  5E001AH01 ,  5E001AJ01