特許

J-GLOBAL ID：200903037958634133

ブラックマトリクス基板、それを用いたマイクロレンズアレイシート、およびその製造方法

発明者： 内田 哲夫 ,  鈴木 基之 ,  三上 友子
出願人/特許権者： 東レ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-199901
公開番号（公開出願番号）：特開平9-049906
出願日： 1995年08月04日
公開日（公表日）： 1997年02月18日
要約：

【要約】【課題】 極めて容易な方法で、ブラックマトリクス基板を構成する遮光層とマイクロレンズが正確に位置合わせされたマイクロレンズアレイシートをも作成できる方法と、それに用いられるブラックマトリクス基板を提供するものである。【解決手段】 透明基板上に光線を吸収および/または反射する遮光層を配列してなるブラックマトリクス基板において、該遮光層の線開口率は80%以下であり、かつ該遮光層は透明基板に対して平行な平膜状であり、光学濃度が0.7〜2.0の範囲内であることを特徴とするブラックマトリクス基板、前記ブラックマトリクス基板上の所望部位にマイクロレンズが形成されているマイクロレンズアレイシート、および前記ブラックマトリクス基板の遮光層が形成された面上に、硬化エネルギー線によって硬化する樹脂組成物を塗布または積層し、該ブラックマトリクス側から硬化エネルギー線を照射することによって所望部位を硬化せしめ、次いで非硬化部分を溶解除去することを特徴とするマイクロレンズアレイシートの製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板上に光線を吸収および/または反射する遮光層を配列してなるブラックマトリクス基板において、該遮光層の線開口率は80%以下であり、かつ該遮光層は透明基板に対して平行な平膜状であり、光学濃度が0.7〜2.0の範囲内であることを特徴とするブラックマトリクス基板。

IPC (5件)：

G02B 5/00 ,  G02B 3/00 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 316 ,  G09F 9/30 312

FI (5件)：

G02B 5/00 B ,  G02B 3/00 A ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/00 316 A ,  G09F 9/30 312 Z