特許

J-GLOBAL ID：200903037963393330

磁性パターン形成方法、磁気記録媒体、磁気記録再生装置

発明者： 青山 勉 ,  佐藤 勇武
出願人/特許権者： TDK株式会社
代理人 (2件)： 野上 敦 ,  佐原 雅史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-129383
公開番号（公開出願番号）：特開2006-309841
出願日： 2005年04月27日
公開日（公表日）： 2006年11月09日
要約：

【課題】 高密度記録に対応する磁気記録媒体に好適な、磁気パターン形成方法を提供する。【解決手段】 基板10上において、磁性層16、イオンバッファ層20をこの順に形成し、このイオンバッファ層20を介在させた状態で、磁性層16に対してイオンを注入する。その後、イオン注入された磁性層16に熱処理を加えることで、イオンの注入領域の磁気特性を改質し、この改質を利用して磁性パターンを形成するようにした。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

基板上において、磁性層、イオンバッファ層をこの順に形成する工程と、 前記イオンバッファ層を介在させた状態で前記磁性層に対してイオンを注入する工程と、 前記磁性層を熱処理することで、前記イオンの注入領域の磁気特性を改質する工程と、 を有することを特徴とする磁性パターン形成方法。

IPC (3件)：

G11B 5/855 ,  G11B 5/65 ,  H01F 41/22

FI (3件)：

G11B5/855 ,  G11B5/65 ,  H01F41/22

Fターム (12件)：

5D006BB07 ,  5D006BB09 ,  5D006DA03 ,  5D112AA19 ,  5D112AA20 ,  5D112AA24 ,  5D112GA02 ,  5D112GA23 ,  5D112GB01 ,  5E049BA06 ,  5E049FC01 ,  5E049JC01

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 磁性材料のエッチング方法及びプラズマエッチング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-130329   出願人：科学技術振興事業団, アネルバ株式会社, 科学技術庁金属材料技術研究所長