特許

J-GLOBAL ID：200903037980275325

レジストパタ-ンの形成方法

発明者： 岡本 和也 ,  多田 邦雄 ,  中野 義昭
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331713
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053122
出願日： 1991年12月16日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：

【要約】【目的】アスペクト比の高いレジストパタ-ンを形成する。【構成】2光束干渉露光方式でフォトレジストにピッチ0.36μm以下の回折パタ-ンを露光し、現像することによりレジストパタ-ンを形成する。このときに、フォトレジストとして、G線におけるAパラメ-タが0.6以上でかつBパラメ-タが0.2以上のものを用いることにより、アスペクト比の高いレジストパタ-ンを得ることができる。

請求項（抜粋）：

2光束干渉露光方式でフォトレジストにピッチ0.36μm以下の回折格子パタ-ンを露光し、現像することによりレジストパタ-ンを形成する方法において、前記フォトレジストとしてG線におけるAパラメ-タが0.6以上でかつBパラメ-タが0.2以上のものを用いることを特徴とするレジストパタ-ンの形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 505 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 7/26