特許
J-GLOBAL ID：200903038004159643
固体電解コンデンサの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
笹沢 和夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-120314
公開番号（公開出願番号）：特開平10-303075
出願日： 1997年04月23日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 高周波特性および温度特性に優れ、かつ漏れ電流による不良率を低下させて、製造上の歩留まりを向上させること。【解決手段】 陽極体としての弁作用金属1の表面に誘電体酸化皮膜2、導電性高分子化合物層3、導電体層であるグラファイト層4及び銀ペースト層5を順次形成し、該導電体層を一方の電極(陰極)6とし、陽極体1を他方の電極(陽極)とする固体電解コンデンサの製造方法において、前記誘電体酸化皮膜2上にポリチオフェンの誘導体を化学酸化重合で所定の厚さになるまで繰り返し形成した後、該誘電体酸化皮膜を化成修復処理することで、優れた高周波特性を損ねることなく、漏れ電流の不良率の低下等を防止することができる。
請求項（抜粋）：
陽極体としての弁作用金属の表面に誘電体酸化皮膜、導電性高分子化合物層、導電体層を順次形成し、該導電体層を一方の電極とし、前記弁作用金属を他方の電極とする固体電解コンデンサの製造方法において、前記誘電体酸化皮膜上に一般式【化1】〔式中R1およびR2は、相互に無関係に水素またはC1〜C4-アルキレン基を表し、或いは共同して、場合によっては置換してあるC1〜C4-アルキレン基、好ましくは、場合によってはアルキル基によって置換してあるメチレン基、場合によってはC1〜C12-アルキンまたはフェニル基によって置換してある1,2-エチレン基、または1,2-シクロヘキシレン基〕で表されるポリチオフェンの誘導体を化学酸化重合で形成した後、該誘電体酸化皮膜を化成修復処理することを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
FI (2件)：
H01G 9/02 331 G
, H01G 9/02 331 H
