特許

J-GLOBAL ID：200903038013659187

マイクロマシン及びマイクロマシンの製造方法

発明者： 澤木 大輔 ,  梅津 一成
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (4件)： 佐々木 宗治 ,  小林 久夫 ,  木村 三朗 ,  大村 昇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-331748
公開番号（公開出願番号）：特開2004-160618
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：

【課題】レーザー照射及びエッチングプロセスを利用して透明な部材中に3次元構造体を可動体として形成し、部材の内部に可動要素を含んだマイクロマシンを製作すること。【解決手段】レーザーに対して透明な母材2と、レーザーの3次元的照射及びエッチングプロセスを利用して母材2の内部において母材2から分離形成された3次元可動構造体であるギア3,4が互いに作用し合う状態に形成され、それらのギアの回転軸3B,4Bが母材2の軸受2Bに支持されて外部と通じているマイクロギア1。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

レーザーに対して透明な母材と、 前記レーザーの照射及びエッチングプロセスを利用して前記母材の内部において該母材から分離形成された3次元可動構造体とを、 備えたことを特徴とするマイクロマシン。

IPC (5件)：

B81B5/00 ,  B23K26/00 ,  B23K26/06 ,  B23K26/08 ,  B81C5/00

FI (5件)：

B81B5/00 ,  B23K26/00 G ,  B23K26/06 C ,  B23K26/08 A ,  B81C5/00

Fターム (9件)：

4E068CA01 ,  4E068CA04 ,  4E068CD04 ,  4E068CE01 ,  4E068CE02 ,  4E068CE04 ,  4E068DA00 ,  4E068DB06 ,  4E068DB13