特許

J-GLOBAL ID：200903038014559828

感放射線性レジスト組成物

発明者： 児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-032855
公開番号（公開出願番号）：特開2002-236358
出願日： 2001年02月08日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 活性光線の照射によるパターン形成において、高感度を有する感放射線性組成物、また、更に高解像度を有し露光マージンにも優れた感放射線性組成物を提供すること。【解決手段】式(I)、(II)で代表されるカルボニル基を少なくとも1つ有し、活性光線の照射により分子内水素ラジカル移動を伴って分解し、酸を発生する化合物を少なくとも一種含有する感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

(a)カルボニル基を少なくとも1つ有し、活性光線の照射により分子内水素ラジカル移動を伴って分解し、酸を発生する化合物を少なくとも一種含有する感放射線性レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 501 ,  C08K 5/10 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (45件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  4J002BC091 ,  4J002BC121 ,  4J002BG051 ,  4J002BG091 ,  4J002BH011 ,  4J002CC041 ,  4J002CC071 ,  4J002ED026 ,  4J002EE037 ,  4J002EH036 ,  4J002EH126 ,  4J002EJ017 ,  4J002EJ047 ,  4J002EJ048 ,  4J002EJ067 ,  4J002EL097 ,  4J002ES006 ,  4J002EU186 ,  4J002EU216 ,  4J002EV046 ,  4J002EV206 ,  4J002EV207 ,  4J002EV217 ,  4J002EV246 ,  4J002EV296 ,  4J002EV306 ,  4J002EV316 ,  4J002EV346 ,  4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-289659
  
• 感光性組成物及びパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-294799   出願人：株式会社東芝