特許

J-GLOBAL ID：200903038018540668

無機薄膜積層体及び無機薄膜形成体

発明者： 古内 浩二
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-247313
公開番号（公開出願番号）：特開2001-064608
出願日： 1999年09月01日
公開日（公表日）： 2001年03月13日
要約：

【要約】【課題】 プラスチックフイルム基材を使用する場合と比較して、光透過性、耐候性、および耐熱性が優れ、しかも取扱いの問題も少ない無機薄膜積層体、及びそれを用いて形成した無機薄膜形成体を提供する。【解決手段】 使用時に除去されるキャリア材層1と、そのキャリア材層1の少なくとも片面に形成された無機薄膜層2と、その無機薄膜層2の片面に形成された粘着剤層3とを有し、前記キャリア材層1と前記無機薄膜層2との間の剥離強度が、前記無機薄膜層2と前記粘着剤層3との間の剥離強度より小さい無機薄膜積層体とする。

請求項（抜粋）：

使用時に除去されるキャリア材層と、そのキャリア材層の少なくとも片面に形成された無機薄膜層と、その無機薄膜層の片面に形成された粘着剤層とを有し、前記キャリア材層と前記無機薄膜層との間の剥離強度が、前記無機薄膜層と前記粘着剤層との間の剥離強度より小さい無機薄膜積層体。

IPC (3件)：

C09J 7/02 ,  B32B 7/06 ,  B32B 9/00

FI (3件)：

C09J 7/02 Z ,  B32B 7/06 ,  B32B 9/00 A

Fターム (44件)：

4F100AA20 ,  4F100AA21B ,  4F100AA21H ,  4F100AK01B ,  4F100AK42 ,  4F100AK52 ,  4F100AR00A ,  4F100AR00C ,  4F100AS00A ,  4F100AS00D ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA07 ,  4F100CA30B ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100GB41 ,  4F100JC00 ,  4F100JJ03 ,  4F100JK06 ,  4F100JK12B ,  4F100JL05 ,  4F100JL08B ,  4F100JL08H ,  4F100JL09 ,  4F100JL13C ,  4F100JL14A ,  4F100JM02B ,  4F100JN01 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00B ,  4J004AA05 ,  4J004AA10 ,  4J004AA11 ,  4J004AA14 ,  4J004AB01 ,  4J004CA06 ,  4J004CA07 ,  4J004CC03 ,  4J004CC04 ,  4J004CD01 ,  4J004DB02 ,  4J004DB03 ,  4J004FA05