特許
J-GLOBAL ID:200903038035741308

処理液供給装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大塚 康徳 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-115366
公開番号(公開出願番号):特開2001-296641
出願日: 2000年04月17日
公開日(公表日): 2001年10月26日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 容器のシール部材の穿孔後の処理液を補充タンクに供給し、さらに希釈液を供給するときにこれらの液の流入に伴い泡立ちが発生し、処理液の劣化を招いていた。【解決手段】 開口部をシール部材で密閉した容器を用いて下方に向かう不動状態で保持し、穿孔手段により穿孔し、濃縮処理液をチューブ7、83を介して下方の補充タンク80に対して供給し、かつ希釈液チューブ85を介して希釈液を供給し、攪拌部材で攪拌して得られる希釈処理液を供給するためにチューブ7、83は、流量を制限するとともに、液面L上で開口するとともに、補充タンクの斜めの内壁部80a上に位置させるとともに、希釈液チューブ85の開口部を液面L以下に設定する。こうすることにより泡立ちの発生を抑制し、処理液の早期劣化を防止した。
請求項(抜粋):
処理液を充填した後に開口部をシール部材で密閉した容器を用いて、前記開口部が下方に向かう不動状態で保持し、前記シール部材を穿孔手段により穿孔し、前記処理液を第1のチューブを介して下方の補充タンクに対して供給し、かつ第2のチューブを介して希釈液を前記補充タンクに供給し、攪拌手段により攪拌して得られる希釈処理液を処理槽に対して供給する処理液供給装置であって、前記穿孔手段は、前記シール部材を穿孔する刃先部と、前記第1のチューブに連通した貫通孔部とを備えるとともに、前記開口部の下方側における待機位置と前記穿孔のための穿孔位置との間で昇降駆動されるとともに、前記第1のチューブは、小チューブと連結し、前記処理液の流量を制限するための流量制限部を設けるとともに、前記補充タンクが下限状態になったときに前記容器内の処理液が供給されることで形成される液面よりやや上方で開口する第1の開口部を有し、前記第2のチューブは、前記液面より下方で開口する第2の開口部を有し、かつ、前記第1の開口部に対向する前記補充タンクの内壁部を斜め下方に傾斜させることを特徴とする処理液供給装置。
IPC (2件):
G03D 3/06 ,  G03D 13/02
FI (2件):
G03D 3/06 Z ,  G03D 13/02
Fターム (6件):
2H098BA15 ,  2H098BA18 ,  2H112AA11 ,  2H112AA13 ,  2H112EA13 ,  2H112EA15

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