特許

J-GLOBAL ID：200903038036186103

傷画素補正回路及び傷画素補正方法

発明者： 梶原 準 ,  大倉 良則
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (3件)： 岩橋 文雄 ,  坂口 智康 ,  内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-420646
公開番号（公開出願番号）：特開2005-184307
出願日： 2003年12月18日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】従来の傷画素補正回路には、傷画素位置を記憶保持しておくためのメモリーが必要であり、傷画素を傷画素の周辺画素の平均値等で置換することで傷画素の補正を行う場合、傷画素が連続的に存在すると、傷データで置換してしまうため、傷画素補正の効果が上がらないという課題があった。【解決手段】本発明によると、複数画素を1単位として処理する画素ブロック処理回路において、傷画素を検出する傷画素検出回路と、傷画素周辺部より、画像の相関関係を算出する差分回路と、傷画素の周辺に他の傷画素があった場合、その傷画素を除いた他の周辺画素から画像データの相関関係を考慮した画素で傷画素を置換することにより、傷画素の位置を記憶するためのメモリーを必要とせず、かつ傷画素を別の傷画素で置換することがないため、より違和感のない補正を行うことが可能となる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

入力された画素を注目画素として、注目画素が傷画素であるかどうかを判断するステップと、 傷画素であると判断された注目画素の複数の周辺画素の画素値と少なくとも1つのしきい値との比較演算を行うステップと、 比較演算によって少なくとも2つに分類されたグループのうち、最も画素数が多いグループに属する画素を用いて傷画素を置換するステップと からなることを特徴とする傷画素補正方法。

IPC (1件)：

H04N5/335

FI (1件)：

H04N5/335 P

Fターム (4件)：

5C024CX21 ,  5C024CX22 ,  5C024CX26 ,  5C024HX14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特開平3-227185号公報
  
• 特開昭57-5486号公報