特許

J-GLOBAL ID：200903038062155895

光ディスクの製造方法

発明者： 白井 睦智
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-243473
公開番号（公開出願番号）：特開平6-096474
出願日： 1992年09月11日
公開日（公表日）： 1994年04月08日
要約：

【要約】【目的】 再生C/N比の高い光ディスクを提供する。【構成】 薄膜のスパッタリングを開始する以前に、真空引きされたスパッタリング装置内に不活性ガスを導入して当該装置内のガス圧Pを0.05Pa<P<0.30Paに調整し、かつ高周波電力のパワー密度Aを0.16W/cm<SP>2</SP> ≦A≦0.40W/cm<SP>2</SP> に調整して、薄膜を形成しようとする面に0秒間<T<30秒間の時間Tだけ、逆スパッタリングをかける。

請求項（抜粋）：

透明基板の片面に、少なくとも記録膜を含む1層又は複数層の薄膜をスパッタリングによって形成する光ディスクの製造方法において、薄膜のスパッタリングを開始する以前に、真空引きされたスパッタリング装置内に不活性ガスを導入して当該装置内のガス圧Pを0.05Pa<P<0.30Paに調整し、かつ高周波電力のパワー密度Aを0.16W/cm<SP>2</SP> ≦A≦0.40W/cm<SP>2</SP> に調整して、薄膜を形成しようとする面に0秒間<T<30秒間の時間Tだけ、逆スパッタリングをかけることを特徴とする光ディスクの製造方法。