特許
J-GLOBAL ID：200903038063774955
積層フィルムの製造方法および反射防止フィルム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-081810
公開番号（公開出願番号）：特開2000-336196
出願日： 2000年03月17日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：
【要約】【課題】 高分子フィルムの分解、伸び、変形の生じない温度で酸化チタン膜の形成が可能で、かつ、酸化チタン膜及び酸化チタン膜とシリカ膜の積層膜の成膜速度が高く、加えて、反射防止層用として使用可能な光学的性能を有するものを形成しうる製造方法、およびその製造方法による反射防止フィルムを提供する。【解決手段】 プラズマCVD法により酸化チタン膜及び酸化チタン膜とシリカ膜の積層膜を形成する。
請求項（抜粋）：
高分子フィルムの温度制御が可能なプラズマCVD装置を用い、-10〜150°Cの範囲内の温度に制御された高分子フィルム上に少なくとも一層の酸化チタン膜を形成することを特徴とする積層フィルムの製造方法。
IPC (9件)：
C08J 7/06 CFD
, C08J 7/06 CEP
, B32B 9/00
, B32B 27/36
, C23C 16/30
, G02B 1/11
, G02F 1/1335
, C08L 1:12
, C08L 67:00
C08J 7/06 CFD Z
, C08J 7/06 CEP Z
, B32B 9/00 A
, B32B 27/36
, C23C 16/30
, G02F 1/1335
, G02B 1/10 A
