特許

J-GLOBAL ID：200903038063939660

蛍光X線分析装置およびX線照射角設定方法

発明者： 寺田 慎一 ,  西萩 一夫
出願人/特許権者： 株式会社テクノス研究所
代理人 (1件)： 西教 圭一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-093346
公開番号（公開出願番号）：特開平6-308059
出願日： 1993年04月20日
公開日（公表日）： 1994年11月04日
要約：

【要約】【目的】 被検物の位置および角度調整を迅速、かつ高精度に行うことができる蛍光X線分析装置およびX線照射角設定方法を提供する。【構成】 蛍光X線分析装置1aは、X線管11と、分光結晶12と、コリメータ13aと、被検物10を支持するための移動テーブル14と、テーブル制御部15と、コリメータ13bと、X線カウンタ21と、蛍光X線B3を検出するための検出器16と、比例増幅器18と、波高分析器19と、データ処理器20などで構成されており、さらに、X線ビームB2が照射される検査領域付近に光ビームL1を照射するためのレーザ光源30と、被検物10の表面で反射した光ビームL1の位置を検出するための光センサアレイ31などが設けられている。

請求項（抜粋）：

被検物の検査面に対して所定角度でX線ビームを照射するためのX線ビーム照射手段と、前記検査面に付着した試料から発生する蛍光X線を検出するための蛍光X線検出手段と、前記検査面近傍を通過するX線ビームの強度を検出するためのX線ビーム検出手段と、前記被検物を支持し、かつ当該検査面の3次元位置および前記X線ビームに対する角度を制御する被検物支持手段とを備える蛍光X線分析装置において、前記X線ビームが照射される前記検査面の検査領域付近に光ビームを照射するための光ビーム照射手段と、前記検査面から反射した光ビームの位置を検出するための光ビーム位置検出手段とを備えることを特徴とする蛍光X線分析装置。

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-208900
  
• 特開平3-148056
  
• 特開平4-143643