特許
J-GLOBAL ID：200903038088575795
波面収差測定装置、露光装置、及びデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-322997
公開番号（公開出願番号）：特開2006-135111
出願日： 2004年11月05日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：
【課題】被検レンズ(特に液浸露光装置に用いられる投影レンズ)の波面収差を高精度に測定することが可能な干渉計を提供すること。【解決手段】この干渉計は、光を発する光源と、光を被検光と参照光とに分離し、被検光を被検レンズに入射させる光学系と、被検レンズから出射した被検光を再び同一光路で被検レンズに向けて反射する反射光学系と、被検レンズと反射光学系との間に充填された液体と、反射光学系により反射された後に被検レンズから出射した被検光と、被検レンズを通過しない参照光との光干渉により生成された干渉縞を検出する光検出器とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
光を発する光源と、
該光を被検光と参照光とに分離し、該被検光を被検レンズに入射させる光学系と、
前記被検レンズから出射した前記被検光を再び同一光路で前記被検レンズに向けて反射する反射光学系と、
前記被検レンズと前記反射光学系との間に充填された液体と、
前記反射光学系により反射された後に前記被検レンズから出射した前記被検光と、該被検レンズを通過しない前記参照光との干渉により生成された干渉縞を検出する光検出器とを有することを特徴とする干渉計。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01B 9/02
, G01M 11/02
, G03F 7/20
H01L21/30 515D
, G01B9/02
, G01M11/02 B
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516A
2F064BB03
, 2F064EE05
, 2F064FF01
, 2F064GG22
, 2F064GG41
, 2F064GG44
, 2F064HH03
, 2F064HH07
, 2F064KK01
, 2G086HH06
, 5F046AA17
, 5F046BA03
, 5F046CB01
, 5F046DA13
, 5F046DB01
, 5F046DB11
, 5F046DC12
