特許

J-GLOBAL ID：200903038103615588

塗布工程の最高塗布速度を増加させ且つ濡れ不良ヒステリシスを実質的に消去する方法

発明者： アンドリュー マイケル ホー ,  ウィリアム ジェイムズ ハリソン ,  テレンス デスモンド ブレイク
出願人/特許権者： イーストマン コダック カンパニー
代理人 (1件)： 石田 敬 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-296341
公開番号（公開出願番号）：特開平9-173975
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1997年07月08日
要約：

【要約】【課題】 塗布法における塗布速度及び濡れ特性を改良すること。【解決手段】 塗布後に支持体に隣接する少なくとも第一の層を構成する材料を支持体上に塗布し、その際前記第一の層がコロイド粒子が親水性コロイド中に分散している分散体を含むことを特徴とする、塗布工程の最高塗布速度を増加させ且つ濡れ不良ヒステリシスを実質的に消去する方法。

請求項（抜粋）：

塗布後に支持体に隣接する少なくとも第一の層を構成する材料を支持体上に塗布し、その際前記第一の層がコロイド粒子が親水性コロイド中に分散している分散体を含むことを特徴とする、塗布工程の最高塗布速度を増加させ且つ濡れ不良ヒステリシスを実質的に消去する方法。