特許

J-GLOBAL ID：200903038107432844

露光方法

発明者： 小杉 雅夫 ,  鈴木 章義
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-293030
公開番号（公開出願番号）：特開平5-003144
出願日： 1984年11月09日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【目的】 投影光学系と検出光学系間の基準長の変動によるアライメント誤差を無くすこと。【構成】 投影レンズ系5によりレチクル9の位置合わせマーク32のパターンを所定基板4上に投影し、該所定基板4の感光層に位置合わせマーク32の潜像パターン39を記録し、該所定基板4を所定量移動させて検出光学系の視野内に送り込み、検出光学系を用いて検出した潜像パターン39の位置と所定基板の移動量とを用いて投影レンズ系5と検出光学系間の基準長を決定し、この基準長に基づいて、検出光学系を用いたオフアキシスアライメントを行なう。

請求項（抜粋）：

投影光学系の傍に配置された検出光学系を用いて基板の位置合わせマークの位置を検出し、該投影光学系と該検出光学系間の基準長に基づいて該基板を移動させて該基板を該原板に対して位置合わせし、該投影光学系により該原板のパターンを該基板上に投影する露光方法において、前記投影光学系により前記原板の位置合わせマークのパターンを所定基板上に投影し、該所定基板の感光層に該パターンを記録する工程と、該所定基板を所定量移動させて前記検出光学系の視野内に前記感光層に記録されたパターンを送り込む工程と、前記検出光学系を用いて前記感光層に記録されたパターンの位置を検出し、前記基準長を決定する工程とを含む露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 311 M ,  H01L 21/30 301 M