オキシランをカルボニル化するための触媒及び方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-525400
公開番号（公開出願番号）：特表2006-500339
出願日： 2003年07月31日
公開日（公表日）： 2006年01月05日
要約：

ラクトンの製造方法は、オキシランの接触カルボニル化により行い、その際、触媒として、a) 成分Aとして少なくとも1種のコバルト化合物及びb) 成分Bとして一般式(I) MXxRn-x (I)[式中、Mは、アルカリ土類金属又は元素周期表の3、4又は12又は13族の金属を表し、Rは、水素又は炭化水素基(この炭化水素基はMと結合する炭素原子以外の炭素原子で置換されていてもよい)を表し、Xは、アニオンを表し、nは、Mの原子価に相当する数を表し、xは、0〜nの範囲内の数を表し、その際、n及びxは、電荷中性が生じるように選択される]の少なくとも1種の金属化合物からなる触媒系を使用する。

請求項（抜粋）：

オキシランの接触カルボニル化によるラクトンの製造方法において、触媒として、 a) 成分Aとして少なくとも1種のコバルト化合物及び b) 成分Bとして一般式(I) MXxRn-x (I) [式中、 Mは、アルカリ土類金属又は元素周期表の3、4又は12又は13族の金属を表し、 Rは、水素又は炭化水素基を表し、前記の炭化水素基はMと結合した炭素原子以外の炭素原子で置換されていてもよく、 Xは、アニオンを表し、 nは、Mの原子価に相当する数を表し、 xは、0〜nの範囲内の数を表し、その際、n及びxは、電荷中性が生じるように選択される]の少なくとも1種の金属化合物からなる触媒系を使用することを特徴とする、オキシランの接触カルボニル化によるラクトンの製造方法。

IPC (2件)：

C07D 305/12 , B01J 31/20

FI (2件)：

C07D305/12 , B01J31/20 Z

Fターム (33件)：

4C048TT05 , 4C048XX02 , 4C048XX05 , 4G169AA06 , 4G169BA27A , 4G169BA27B , 4G169BA28B , 4G169BB04A , 4G169BC10A , 4G169BC16A , 4G169BC16B , 4G169BC35A , 4G169BC67A , 4G169BC67B , 4G169BD06B , 4G169BD12A , 4G169BD12B , 4G169BD13A , 4G169BD14A , 4G169BE01A , 4G169BE01B , 4G169BE02A , 4G169BE06A , 4G169BE17B , 4G169BE36A , 4G169BE37A , 4G169BE42A , 4G169BE42B , 4G169CB25 , 4G169CB67 , 4G169CB72 , 4H039CA42 , 4H039CH10

引用特許：

審査官引用 (2件)

エポキシドのカルボニル化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-177641 出願人：シエル・インターナシヨネイル・リサーチ・マーチヤツピイ・ベー・ウイ
2-オキセタノン類化合物の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-332967 出願人：株式会社トクヤマ

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