特許

J-GLOBAL ID：200903038166629295

X線マスク、X線露光装置、X線露光方法、及び、X線転写歪測定方法

発明者： 青山 肇
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 柏谷 昭司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-175677
公開番号（公開出願番号）：特開2000-012433
出願日： 1998年06月23日
公開日（公表日）： 2000年01月14日
要約：

【要約】【課題】 X線マスク、X線露光装置、X線露光方法、及び、X線転写歪測定方法に関し、ミラーの揺動に起因するランナウトの影響による転写パターンの歪を低減する。【解決手段】 少なくともデバイスパターン8を設けたX線マスク1をX線ステッパに装着する際に、0°、90°、180°、或いは、270°の内の少なくとも2つ以上の回転角でX線ステッパに装着することを可能にする構造をX線マスク1に設ける。

請求項（抜粋）：

少なくともデバイスパターンを設けたX線マスクにおいて、前記X線マスクをX線ステッパに装着する際に、0°、90°、180°、或いは、270°の内の少なくとも2つ以上の回転角で前記X線ステッパに装着することを可能にする構造を有することを特徴とするX線マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16

FI (4件)：

H01L 21/30 531 M ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 531 A ,  H01L 21/30 531 E

Fターム (14件)：

2H095BA10 ,  2H095BB29 ,  2H095BE03 ,  2H095BE06 ,  2H095BE07 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  5F046DA13 ,  5F046DB04 ,  5F046GA02 ,  5F046GA04 ,  5F046GA14 ,  5F046GB01 ,  5F046GC04