特許

J-GLOBAL ID：200903038167226879

プリント基板洗浄水再生装置

発明者： 水谷 淳二 ,  安田 正雄 ,  森木 徹
出願人/特許権者： 株式会社ササクラ ,  株式会社ピーエスカナガワ ,  株式会社プラントサービス
代理人 (1件)： 景山 憲二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-193135
公開番号（公開出願番号）：特開平6-007797
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：

【要約】【目的】 洗浄剤に浸漬したプリント基板をリンスした洗浄水を全て再使用可能にすると共に、活性炭吸着装置及び純粋装置の吸着除去率を向上する。【構成】 洗浄水とオゾンガスとを接触させる接触装置1と、その洗浄水に紫外線を照射する紫外線照射装置2と、洗浄水が含有する含有物を吸着する活性炭吸着塔3と、更に含有物を除去する純粋器4とを備える。本装置を通過することにより、例えばCOD810ppm等の性状を有する汚染された洗浄水が、COD0.5ppm等の性状を有する再利用可能な水に再生される。【効果】 洗浄剤の化学構造を変化させ、活性炭吸着装置及び純粋装置における除去率を向上し、再利用可能なように洗浄水を再生することができる。

請求項（抜粋）：

洗浄剤に浸漬したプリント基板を洗浄した洗浄水を再生するプリント基板洗浄水再生装置において、前記洗浄水とオゾンガスとを接触させる接触装置と、オゾンガスと接触した前記洗浄水に紫外線を照射する紫外線照射装置と、前記洗浄水が含有する含有物を吸着する活性炭吸着装置と、前記活性炭吸着装置を通過後に前記洗浄水が含有する含有物を除去する純水装置と、を有することを特徴とするプリント基板洗浄水再生装置。

IPC (6件)：

C02F 9/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/32 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/78 ,  H05K 3/26

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭61-283394
  
• 特開昭54-091955
  
• 特開平2-090995