特許
J-GLOBAL ID：200903038167451880
SOG組成物及びそれを用いた半導体装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 富士弥 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-211898
公開番号（公開出願番号）：特開平6-056560
出願日： 1992年08月10日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：
【要約】【目的】 SOGの下地からの露光光の反射を防止するSOG組成物を得る。【構成】 平坦化に用いるSOG組成物中に波長が240〜450nmの光を吸収する色素を含有させたことにより、SOG膜15上にレジストパターン17Aを形成する際のハレーション及び定在波効果を抑制できる。このため、半導体装置の加工線幅のバラツキを防止できる。
請求項（抜粋）：
波長が240〜450nmの光を吸収する色素を含有することを特徴とするSOG組成物。
IPC (2件)：
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