特許
J-GLOBAL ID：200903038175888686
エチレンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-101450
公開番号（公開出願番号）：特開平10-175885
出願日： 1997年04月18日
公開日（公表日）： 1998年06月30日
要約：
【要約】【課題】エタンから酸化脱水素反応により、高い活性及び選択性でエチレンを製造する方法を提供する。【解決手段】触媒の存在下、高い温度で、エタンを分子状酸素含有ガスと接触させることによってエチレンを製造するに当たり、該触媒としてMo、V及びSbを必須成分として含み、その粉末X線回折が特徴的なパターンを有する複合金属酸化物を含有する触媒を使用する、エチレンの製造方法。
請求項（抜粋）：
触媒の存在下、高い温度で、エタンを分子状酸素含有ガスと接触させることによってエチレンを製造するに当たり、該触媒としてMo、V及びSbを必須成分として含み、その粉末X線回折が主として下記表-1及び/又は表-2に示す特徴的パターンを有する複合金属酸化物を含有する触媒を使用することを特徴とするエチレンの製造方法。【表1】 表-1 ------------------------- 回折角2θ( ゚) 相対ピ-ク強度(%) ------------------------- 22.2±0.4 (100) 28.3±0.4 (400〜10) 36.2±0.4 (80〜3) 45.1±0.4 (50〜3) 50.0±0.4 (50〜3) ------------------------- (Cu-Kα線を使用)(かっこ内の数字は、22.2 ゚ のピ-クを100としたときの相対ピ-ク強度を示す。)【表2】 表-2 ------------------------- 回折角2θ( ゚) 相対ピ-ク強度(%) ------------------------- 6.7±0.4 (15〜1) 7.9±0.4 (20〜1) 9.1±0.4 (20〜1) 22.2±0.4 (100) 27.3±0.4 (80〜8) 35.5±0.4 (15〜3) 45.2±0.4 (50〜3) ------------------------- (Cu-Kα線を使用)(かっこ内の数字は、22.2 ゚ のピ-クを100としたときの相対ピ-ク強度を示す。)
IPC (4件)：
C07C 11/04
, B01J 23/22
, C07C 5/48
, C07B 61/00 300
C07C 11/04
, B01J 23/22
, C07C 5/48
, C07B 61/00 300
