プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-168608
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016893
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】大口径試料に対応した高周波電極間において制御性、再現性良く、且つコイル電流を増大を招くことなく、所望強度の磁場形成が可能な手段を具備したプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】バッファ室100を介して真空処理室104に試料を投入する所謂ロードロック式の装置において、真空処理室104内のステージ電極105及び上部電極108の間隙に水平方向成分が支配的な磁場を形成するユニットが、第1のコイル111、該コイルと対向した第2のコイル112及び両コイルの外側を覆う磁性体113より構成されている。コイルの外側を覆う磁性体113が磁力線の利用効率を高める効果があり、大口径試料に対応したステージ電極105及び上部電極108の間隙においても、コイル電流の増大を招くこと無く、所望強度の磁場を形成できる。その結果、コイルの小型化、発熱量の低減効果により装置設計が容易になり、低コストで製造できる。

請求項（抜粋）：

真空処理室に設けられた一対の電極と該一対の電極間に高周波電界を印加する電源ユニットとを具備し、前記真空処理室内にて前記電極の一方に搭載された基板を処理するプラズマ処理装置において、前記一対の電極の外側に対向して配置され中心線が前記基板を搭載する電極の主面に対して略平行となるように配置された複数個のコイルと、該複数個のコイル及び前記真空処理室の少なくとも一部を覆った磁性体とを含み、前記一対の電極の間隙において前記電極の主面に対して平行な成分が支配的な磁場を形成する磁場形成ユニットを具備していることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (7件)：

H01L 21/3065 , C23C 4/12 , C23C 16/50 , C23F 4/00 , H01L 21/205 , H01L 21/68 , H05H 1/46

FI (7件)：

H01L 21/302 C , C23C 4/12 , C23C 16/50 , C23F 4/00 A , H01L 21/205 , H01L 21/68 A , H05H 1/46 C

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