特許

J-GLOBAL ID：200903038192366200

水素製造方法及び水素製造装置

発明者： 横田 幸治
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-372748
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255508
出願日： 2001年12月06日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】一つの反応器でより低温域での水素製造を可能とし、かつ改質燃料ガス中のCO濃度を100ppm以下、より好ましくは 10ppm以下と低くすることができるようにする。【解決手段】燃料と水蒸気とからなる混合ガスを改質触媒及び炭酸ガス吸脱助剤とを含む反応層に接触させH2を得るとともに副生する炭酸ガスを炭酸ガス吸脱助剤に固定する水素転換工程と、炭酸ガス吸脱助剤を加熱して固定されていた炭酸ガスを脱離させ炭酸ガス吸脱助剤の炭酸ガス吸収能を再生する再生工程と、を交互に行う。生成したCOはさらにH2と CO2に転換され、 CO2は炭酸ガス吸脱助剤に吸収されて平衡系外に固定されるので、メタンの副生が抑制され、改質燃料ガスはほとんどH2のみとなる。またメタンが生成しないので、反応温度が 700〜 900°C以上という制約が解除される。

請求項（抜粋）：

少なくとも炭素を含む燃料と水蒸気とからなる混合ガスを改質触媒及び炭酸ガス吸脱助剤を含む反応層に接触させ、水素ガスを得るとともに副生する炭酸ガスを該炭酸ガス吸脱助剤に固定する水素転換工程と、該炭酸ガス吸脱助剤を加熱して固定されていた炭酸ガスを脱離させ該炭酸ガス吸脱助剤の炭酸ガス吸収能を再生する再生工程と、を行うことを特徴とする水素製造方法。

IPC (4件)：

C01B 3/38 ,  B01D 53/14 ,  B01J 20/04 ,  H01M 8/06

FI (5件)：

C01B 3/38 ,  B01D 53/14 A ,  B01J 20/04 A ,  B01J 20/04 B ,  H01M 8/06 G

Fターム (31件)：

4D020AA03 ,  4D020BA01 ,  4D020BA02 ,  4D020BA03 ,  4D020BB01 ,  4D020BC01 ,  4D020CA03 ,  4D020DA01 ,  4D020DB06 ,  4G040EA01 ,  4G040EA03 ,  4G040EA06 ,  4G040EB14 ,  4G040EB18 ,  4G040EB32 ,  4G040EB43 ,  4G040EC03 ,  4G066AA13B ,  4G066AA16B ,  4G066AA17B ,  4G066BA07 ,  4G066CA35 ,  4G066DA04 ,  4G066FA22 ,  4G066FA37 ,  4G066GA01 ,  4G066GA03 ,  4G066GA07 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA17