パターン欠陥検査方法及びその装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：小川勝男 , 田中恭助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-390655
公開番号（公開出願番号）：特開2005-158780
出願日： 2003年11月20日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：

【課題】超微細な回路パターンが形成された被検査対象上の超微細な欠陥を顕在化して高感度で、しかも高速度で検査できるようにしたパターン欠陥検査方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】本発明では、同一パターンとなるように形成された2つのパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置を、画像の比較処理を複数領域で並列に処理する手段を備えて構成した。また、パターン検査装置を、異なる複数の処理単位で比較画像間の画像信号の階調を変換する手段を備えて構成し、画像間の同一パターンで明るさの違いが生じている場合であっても、正しく欠陥を検出できるようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被検査対象物上のパターン欠陥を検査するパターン欠陥検査装置であって、前記被検査対象物から検出画像信号および参照画像信号を取得処理して画像メモリに格納する画像取得手段と、前記画像メモリから読み出して得られる検出画像信号と参照画像信号とを比較することにより欠陥候補の抽出処理を行う欠陥候補抽出ユニットと、前記該欠陥候補抽出ユニットで抽出された欠陥候補を含む部分画像から欠陥の検出処理及び分類処理を行う欠陥検出ユニットとを備え、前記欠陥候補抽出ユニット及び/又は前記欠陥検出ユニットにおいて行う処理を前記画像取得手段において行う画像取得処理と非同期で行うことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (5件)：

H01L21/66 , G01B11/30 , G01N21/956 , G06T1/00 , G06T7/00

FI (5件)：

H01L21/66 J , G01B11/30 A , G01N21/956 A , G06T1/00 305A , G06T7/00 300E

Fターム (58件)：

2F065AA49 , 2F065BB02 , 2F065CC19 , 2F065DD03 , 2F065DD06 , 2F065GG04 , 2F065GG24 , 2F065JJ19 , 2F065JJ26 , 2F065PP12 , 2F065QQ03 , 2F065QQ24 , 2F065QQ25 , 2F065QQ31 , 2F065QQ36 , 2F065QQ38 , 2F065RR03 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051CA04 , 2G051CB01 , 2G051DA09 , 2G051EA08 , 2G051EA11 , 2G051EA14 , 2G051EA24 , 2G051EB01 , 2G051ED01 , 2G051ED08 , 2G051ED21 , 4M106AA01 , 4M106BA10 , 4M106CA39 , 4M106DB21 , 5B057AA03 , 5B057BA30 , 5B057CA08 , 5B057CA12 , 5B057CC03 , 5B057CH01 , 5B057CH11 , 5B057DA03 , 5B057DA07 , 5B057DA12 , 5B057DA16 , 5B057DB02 , 5B057DB09 , 5B057DC22 , 5B057DC33 , 5L096AA06 , 5L096BA03 , 5L096CA02 , 5L096FA14 , 5L096FA69 , 5L096FA76 , 5L096GA51 , 5L096HA07 , 5L096LA05

引用特許：

出願人引用 (1件)

微細欠陥検査装置およびその方法並びに位置ずれ算出回路
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-171185 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (9件)

特開平3-085742
繰返しパターンの欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-231022 出願人：株式会社日立製作所
画像分類方法並びに観察方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-120467 出願人：株式会社日立製作所

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