特許

J-GLOBAL ID：200903038209457647

スルホニウム化合物の製造方法

発明者： 村岡 徳之 ,  高下 勝滋 ,  小泉 達也
出願人/特許権者： 三新化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-018605
公開番号（公開出願番号）：特開平8-188570
出願日： 1995年01月10日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【構成】 化1で表されるp-オキシ置換フェニルアルキルスルフィド化合物とR3Xで表されるハライド化合物を水中で反応させることを特徴とする化2で表されるスルホニウム化合物の製造方法。(ただし、式中R1は、水素、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェノキシカルボニル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基のいずれかを、R2は、炭素数1〜4のアルキル基またはベンジル基を、R3は、炭素数1〜4のアルキル基、ベンジル基、置換ベンジル基、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、ビニルベンジル基、シンナミル基のいずれかを、Xはハロゲン原子を示す。)【効果】本発明の製造方法によれば、高収率で高純度の特定のスルホニウムハライドが得られる。また、有機溶媒の取り扱いを省略できるため、製造環境も悪化せず、工業的に適した製造方法である。【化1】【化2】

請求項（抜粋）：

化1で表されるスルフィド化合物とR4Xで表されるハライド化合物を水中で反応させることを特徴とする化2で表されるスルホニウム化合物の製造方法。【化1】【化2】(ただし、式中R1は、水素、メチル基、アセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンゾイル基、フェノキシカルボニル基、クロロアセチル基、ジクロロアセチル基、トリクロロアセチル基、トリフルオロアセチル基のいずれかを、R2は、水素、ハロゲン、炭素数1〜4のアルキル基のいずれかを、R3は、炭素数1〜4のアルキル基またはベンジル基を、R4は、炭素数1〜4のアルキル基、ベンジル基、置換ベンジル基、α-ナフチルメチル基、β-ナフチルメチル基、ビニルベンジル基、シンナミル基のいずれかを、Xはハロゲン原子を示す。)