特許

J-GLOBAL ID：200903038213918268

欠陥検査方法及びその装置、マスクの製造方法

発明者： 高瀬 康徳
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-187863
公開番号（公開出願番号）：特開2002-005850
出願日： 2000年06月22日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
要約：

【要約】【課題】画像データの位置合わせをすることなく、かつ複数の良品画像データを記憶することなく、精度高く欠陥を抽出すること。【解決手段】ガラス基板10の側面10aを撮像して得られた欠陥元画像データとこの欠陥元画像データをガラス基板10の側面10a上に形成された模様で決まる方向に画素単位でずらした欠陥ずらし画像データとの差である欠陥抽出画像データを求め、この欠陥抽出画像データにおける輝度を探索することによってガラス基板10の側面10a上に存在する傷、欠け、クラックなどの欠陥部分19を抽出する。

請求項（抜粋）：

被検査体を撮像して得られた画像データとこの画像データを前記被検査体上に形成された模様で決まる方向に所定領域単位でずらした画像データとの差の画像データを求め、この差画像データにおける輝度を探索することによって前記被検査体上の欠陥を抽出することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (6件)：

G01N 21/956 ,  G01B 11/24 ,  G01B 11/30 ,  G03F 1/08 ,  G06T 1/00 305 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G01N 21/956 A ,  G01B 11/30 A ,  G03F 1/08 S ,  G06T 1/00 305 A ,  G01B 11/24 F ,  H01L 21/30 502 V

Fターム (39件)：

2F065AA49 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065DD03 ,  2F065DD04 ,  2F065FF42 ,  2F065GG01 ,  2F065HH02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065QQ04 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ37 ,  2F065QQ38 ,  2F065RR02 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EC06 ,  2G051ED07 ,  2G051ED12 ,  2G051ED30 ,  2H095BD04 ,  2H095BD17 ,  2H095BD19 ,  2H095BD23 ,  2H095BD24 ,  5B057AA03 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DC22 ,  5B057DC32 ,  5B057DC34