特許
J-GLOBAL ID：200903038223866932
ミクロ構造およびミクロ構造の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-504729
公開番号（公開出願番号）：特表2006-520923
出願日： 2004年03月18日
公開日（公表日）： 2006年09月14日
要約：
少なくとも二つの凹凸構造の重ね合わせにより光を回折させるミクロ構造が形成され、第1の凹凸構造は機械的に形成されるが、少なくとも一つの第2の凹凸構造は光化学的に生成された回折構造である。 一つの凹凸構造と少なくとも一つの回折構造との重ね合わせにより、光を回折させるミクロ構造を形成する方法は、 a)露出した表面に第1の凹凸構造を備えたホトレジスト層(2)を平坦なサブストレート(1)上に形成し、 b)コーヒレントな光を用いて第1の凹凸構造(5)上に干渉縞を形成し、 c)干渉縞に対する第1の凹凸構造(5)の方向を決定し、 d)凹凸構造を干渉縞で露光し、 e)ホトレジストを現像し、露光作業で変質されたホトレジスト材料を除去して、回折構造の凹部例えば溝を凹凸構造上に形成し、 f)ホトレジストを乾燥させる、諸工程を有してなる。
請求項（抜粋）：
第1の凹凸構造を、少なくとも一つの第2の凹凸構造と重ね合わせることによって形成されるミクロ構造であって、
前記第1の凹凸構造(5)が層(2)に機械的に形成された構造であり、前記少なくとも一つの第2の凹凸構造が、前記第1の凹凸構造(5)の表面上に光化学的に形成された凹部(13)を備えた回折構造(12)であることを特徴とするミクロ構造。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2H049AA03
, 2H049AA07
, 2H049AA34
, 2H049AA37
, 2H049AA39
, 2H049AA66
