特許
J-GLOBAL ID：200903038224444217
イオンビーム加工装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-211351
公開番号（公開出願番号）：特開平7-065772
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月10日
要約：
【要約】【目的】 加工領域の状態をリアルタイムで観察できると共に、加工領域以外の材料表面のイオンビームによる損傷を極力少なくすることができるイオンビーム加工装置を実現する。【構成】 比較的広い材料領域がイオンビームによって走査されるよう制御コンピュータ17は偏向器制御回路7やブランキング制御回路6を制御する。この走査によって発生した2次電子は検出器11によって検出される。検出信号は第1のフレームメモリ13に供給される。次に、加工動作に入り、より狭い材料領域で繰り返しイオンビームの走査を行うように、制御コンピュータ17は各回路を制御する。この時、検出信号は第2のフレームメモリ14に供給される。第3のフレームメモリ15は文字情報を記憶するフレームメモリである。これら3つのフレームメモリによって記憶された信号は、フレーム合成回路16に供給されて合成される。合成信号は陰極線管18に供給される。
請求項（抜粋）：
イオン源と、イオン源から発生したイオンビームを被加工材料上に細く集束するための集束手段と、被加工材料上でイオンビームを2次元的に走査するための走査手段と、材料へのイオンビームの照射によって発生した信号を検出する検出器と、比較的広い第1の材料領域のイオンビームの走査に基づく検出器からの検出信号を記憶する第1のフレームメモリと、第1の材料領域の内の特定の狭い第2の領域におけるイオンビームの繰り返し走査に基づく検出信号を記憶する第2のフレームメモリと、第1のフレームメモリの像信号と第2のフレームメモリの像信号とを合成する合成手段と、合成手段からの信号に基づいて像を表示する表示手段とを備えたイオンビーム加工装置。
IPC (4件)：
H01J 37/22 502
, H01J 37/30
, H01L 21/265
, H01L 21/3065
H01L 21/265 D
, H01L 21/302 D
