特許

J-GLOBAL ID：200903038234744685

熱処理装置及び成膜方法

発明者： 河西 繁
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-150102
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343726
出願日： 2001年05月18日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：

【要約】【課題】 膜厚の再現性を大幅に向上させることが可能な熱処理装置を提供する。【解決手段】 処理枚数が増加するに従って処理容器4内の状態が変化するような処理容器内で所定の制御対象パラメータの目標値を維持しつつ前記被処理体に成膜処理を施すようにした熱処理装置において、前記処理容器内の状態変化に対応するモデル関数を予め記憶すると共に、設定パラメータの設定値に基づいて前記制御対象パラメータの目標値を算出するプロセス条件補償手段26を備える。これにより、被処理体を1枚処理する毎に制御することによって、膜厚の再現性を大幅に向上させる。

請求項（抜粋）：

処理枚数が増加するに従って処理容器内の状態が変化するような処理容器内で所定の制御対象パラメータの目標値を維持しつつ前記被処理体に成膜処理を施すようにした熱処理装置において、前記処理容器内の状態変化に対応するモデル関数を予め記憶すると共に、設定パラメータの設定値に基づいて前記制御対象パラメータの目標値を算出するプロセス条件補償手段を備えたことを特徴とする熱処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/52 ,  H01L 21/302 N

Fターム (16件)：

4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030CA04 ,  4K030FA10 ,  4K030KA41 ,  4K030LA15 ,  5F004AA01 ,  5F004AA15 ,  5F004BD04 ,  5F004CA08 ,  5F045BB03 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EF05 ,  5F045GB13 ,  5F045GB15