特許

J-GLOBAL ID：200903038236222740

レジスト組成物

発明者： 岸田 貴仁 ,  松村 晃 ,  河上 淳志
出願人/特許権者： 日本ペイント株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-160840
公開番号（公開出願番号）：特開平6-003826
出願日： 1992年06月19日
公開日（公表日）： 1994年01月14日
要約：

【要約】【構成】 (a)α,β-エチレン性不飽和カルボン酸のt-ブチルエステル20〜94重量%と、式CH2=C(R1)-COO-(R2-O)n-R3 I[式中、R1は水素またはメチル基であり、R2は炭素数1〜6のアルキレン基であり、R3は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、nは1〜10の整数である]で示される(メタ)アクリル酸エステル5〜79重量%と、他のα,β-エチレン性不飽和化合物1〜75重量%と、からなる酸価2〜200の重合体;および(b)露光により酸を生じさせる光活性剤;を含有するポジ型レジスト組成物。【効果】 レジスト層を複数回露光現像することによるパターン形成が良好にでき、レジスト層と基板との密着性に優れる新規なポジ型レジスト組成物が提供された。

請求項（抜粋）：

(a)α,β-エチレン性不飽和カルボン酸のt-ブチルエステル20〜94重量%と、式CH2=C(R1)-COO-(R2-O)n-R3 I[式中、R1は水素またはメチル基であり、R2は炭素数1〜6のアルキレン基であり、R3は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基またはアラルキル基であり、nは1〜10の整数である]で示される(メタ)アクリル酸エステル5〜79重量%と、他のα,β-エチレン性不飽和化合物1〜75重量%と、からなる酸価2〜200の重合体;および(b)露光により酸を生じさせる光活性剤;を含有するポジ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/00 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-192173
  
• 特表平5-506731
  
• 特表平5-506106
  
• 特開平2-309358