特許
J-GLOBAL ID：200903038238202127
結晶性酸化第二セリウムの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-155997
公開番号（公開出願番号）：特開平8-081218
出願日： 1995年06月22日
公開日（公表日）： 1996年03月26日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造用の研磨材や、プラスチック、ガラス等の紫外線吸収材料に用いられる酸化第二セリウム粒子の製造方法を提供する。【構成】 本発明は、水酸化第二セリウムと硝酸塩を含有する水性媒体を、アルカリ性物質を用いて8〜11のpHに調整した後、100〜200°Cの温度で加圧下に加熱する事を特徴とする0.03〜5μmの粒子径を有する酸化第二セリウム粒子の製造方法である。また、0.03〜5μmの粒子径を有する結晶性酸化第二セリウム粒子の水性分散体に、第4級アンモニウムイオン(NR4+、但しRはアルキル基)を〔NR4+〕/〔CeO2〕のモル比で0.001〜1の範囲に含有して安定化された酸化第二セリウムゾルである。
請求項（抜粋）：
水酸化第二セリウムと硝酸塩を含有する水性媒体を、アルカリ性物質を用いて8〜11のpHに調整した後、100〜200°Cの温度で加圧下に加熱する事を特徴とする0.03〜5μmの粒子径を有する酸化第二セリウム粒子の製造方法。
IPC (3件)：
C01F 17/00
, C09K 3/00 104
, C09K 3/14 550
