特許

J-GLOBAL ID：200903038242937719

新規な高分子担体およびその製造法

発明者： 城戸 浩胤
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-208533
公開番号（公開出願番号）：特開平10-055911
出願日： 1996年08月07日
公開日（公表日）： 1998年02月24日
要約：

【要約】【解決手段】 高分子材料の表層内部に磁性体または標識性物質を包埋してなる新規な包埋型高分子担体およびその製造方法。【効果】 本発明の高分子担体は、磁性体または標識性物質が解離することなく、粒径が均一である等の優れた特性を有しており、各種の用途に利用可能である。

請求項（抜粋）：

高分子材料の表層内部に磁性体または標識性物質を包埋してなる包埋型高分子担体。

IPC (7件)：

H01F 1/44 ,  C08J 3/00 ,  C08K 3/10 ,  C08L 25/10 KFV ,  C08L 35/00 LHT ,  C08L101/00 LTB ,  G01N 33/545

FI (7件)：

H01F 1/28 ,  C08J 3/00 ,  C08K 3/10 ,  C08L 25/10 KFV ,  C08L 35/00 LHT ,  C08L101/00 LTB ,  G01N 33/545 Z