特許
J-GLOBAL ID：200903038250066476
半導体製造設備用転がり軸受
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-016438
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209627
出願日： 1992年01月31日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 平均分子量が5000以下のPTFEからなる潤滑皮膜の耐久性をさらに向上させる。【構成】 内輪1の転走面およびつば面には多数の微小なくぼみ31がアトランダムに形成され、さらに潤滑皮膜1aが島状に形成されている。くぼみ31の形状は母材内部に向いたくさび状をなしている。潤滑皮膜1aはころ3から荷重を受けると、くぼみ31の近傍の皮膜部分1a1がくぼみ31に深く入り込む。そして、ころ3との摺動接触によって潤滑皮膜1aが滑り摩擦力を受けた場合には、くぼみ31に深く入り込んだ皮膜部分1a1が一種のアンカーとなって潤滑皮膜1aをつば面に保持する。
請求項（抜粋）：
転がり軸受を構成する部品のうち少なくとも転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる表面に平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる潤滑皮膜を形成したものであって、上記部品のうち少なくとも滑り摩擦を生ずる表面に多数の微小なくぼみを有することを特徴とする半導体製造設備用転がり軸受。
引用特許：
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