反応器

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：奥山尚一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-599503
公開番号（公開出願番号）：特表2002-542002
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2002年12月10日
要約：

【要約】反応器の上に反応物15が供給4によって供給される表面5を有する回転自在ディスク3を含む反応器である。ディスク3は高速で回転され、反応物15は、膜17を形成するために表面5の上にこぼれる。表面5には、金属メッシュ60などのその表面領域を増加するための形状構成が具備され、それにより反応物15の表面5上の滞留時間を延長し、混合を補助する。

請求項（抜粋）：

軸のまわりに回転できるように構成された支持部材を含んでおり、前記支持部材が、表面と、少なくとも1つの反応物を該表面に供給するために該表面に関連付けられた供給手段とを有し、該表面が、前記反応物に関係する有効表面接触領域を増やす機能を備えていることを特徴とする反応器。

IPC (3件)：

B01J 19/18 , B01J 19/00 321 , B01J 35/04 351

FI (3件)：

B01J 19/18 , B01J 19/00 321 , B01J 35/04 351

Fターム (28件)：

4G069AA01 , 4G069AA02 , 4G069DA05 , 4G069EA02X , 4G069EA03X , 4G069EA06 , 4G069EA07 , 4G069EA11 , 4G069EB04 , 4G069EB11 , 4G075AA62 , 4G075BD08 , 4G075BD26 , 4G075CA54 , 4G075EA06 , 4G075EB01 , 4G075EC01 , 4G075EC14 , 4G075EC25 , 4G075ED01 , 4G075ED02 , 4G075ED08 , 4G075ED09 , 4G075EE13 , 4G075FA03 , 4G075FA14 , 4G075FA20 , 4G075FB02

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭58-104623
特開昭59-162901
特開昭54-126675

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