特許

J-GLOBAL ID：200903038252122098

電子ビーム描画装置

発明者： 中山 義則 ,  五明 由夫
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033781
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232060
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 試料に照射された電子が試料を透過し、試料保持部材等で反射散乱し後方から試料上のレジストに再入射することに伴う被り現象や発熱を防止すること。【解決手段】 試料を透過した電子を吸収する構造を試料背面に設ける。透過してきた電子ビームを吸収しそのエネルギーを装置外へ輸送する機構を設けた。

請求項（抜粋）：

収束した電子ビームを偏向しながら試料上に照射して描画を行う電子ビーム描画装置であって、該試料の背面側に該試料を透過した電子ビームを吸収する部材を設けたことを特徴とする電子ビーム描画装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305

FI (4件)：

H01L 21/30 541 L ,  G03F 7/11 503 ,  G03F 7/20 504 ,  H01J 37/305 B

Fターム (16件)：

2H025AB16 ,  2H025BH05 ,  2H025CB51 ,  2H097BB01 ,  2H097CA16 ,  2H097FA06 ,  2H097LA10 ,  5C034BB06 ,  5C034BB10 ,  5F056CB09 ,  5F056CC12 ,  5F056CC13 ,  5F056CC15 ,  5F056CC16 ,  5F056EA18 ,  5F056FA07