特許
J-GLOBAL ID：200903038253223190
セラミックスフイルターの製造方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-197031
公開番号（公開出願番号）：特開平11-033322
出願日： 1997年07月23日
公開日（公表日）： 1999年02月09日
要約：
【要約】【課題】この発明は、多孔質支持体の表面に形成する膜を構成するセラミックス粒子を予め仮焼しこれを粉砕し、所定の粒度に分級したセラミックス粒子を用いることによって、多孔質支持体表面に膜を形成する際に膜を構成するセラミックス粒子が多孔質支持体中に侵入せずまたクラックなどの発生も少く、従って優れたフイルター性能を発揮するセラミックスフイルターを得ようとするものである。【解決手段】多孔質支持体の表面に薄膜を形成したセラミックスフイルターの製造方法であって、セラミックス多孔質支持体の表面に、セラミックス一次粒子を後工程の焼成処理の温度よりも低い温度で予め仮焼しこれを粉砕、分級したセラミックス二次粒子のスラリーを付着して薄膜を形成し、その後前記セラミックスの焼結温度で焼成することを特徴とするセラミックスフイルターの製造方法である。
請求項（抜粋）：
多孔質支持体の表面に薄膜層を形成したセラミックスフイルターの製造方法であって、セラミックス多孔質支持体の表面に、セラミックス一次粒子を後工程の焼成処理の温度よりも低い温度で予め仮焼しこれを粉砕、分級したセラミックス二次粒子を含有するスラリーを付着して薄膜を形成し、その後これを前記セラミックスの焼結温度で焼成することを特徴とするセラミックスフイルターの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B01D 39/20 D
, B01D 39/00 B
