特許
J-GLOBAL ID：200903038257716549
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、及びマスクブランクスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-090682
公開番号（公開出願番号）：特開2004-291209
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：
【課題】局所加工が施されたガラス基板表面を、局所加工による面荒れの改善や表面欠陥の除去を目的として研磨するにあたり、この研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持しつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善するとともに、ガラス基板表面の表面欠陥を除去する。【解決手段】本発明のマスクブランクス用ガラス基板の製造方法は、ガラス基板表面の凹凸形状を測定する凹凸形状測定工程と、凹凸形状測定工程で得られた測定結果にもとづいて、局所加工を施すことにより、ガラス基板表面の平坦度を所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、平坦度制御工程の後、前記局所加工が施されたガラス基板表面を、研磨用工具面に接触させることなく、ガラス基板表面と研磨用工具面との間に介在する加工液の作用で研磨する非接触研磨工程とを有する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
マスクブランクス用ガラス基板表面の凹凸形状を測定する凹凸形状測定工程と、
前記凹凸形状測定工程で得られた測定結果にもとづいて、前記ガラス基板表面に存在する凸部位の凸度を特定するとともに、この凸度に応じた加工条件で前記凸部位に局所加工を施すことにより、前記ガラス基板表面の平坦度を所定の基準値以下に制御する平坦度制御工程と、
前記平坦度制御工程の後、前記局所加工が施された前記ガラス基板表面を、研磨用工具面に接触させることなく、前記ガラス基板表面と前記研磨用工具面との間に介在する加工液の作用で研磨する非接触研磨工程と、
を有することを特徴とするマスクブランクス用ガラス基板の製造方法。
IPC (5件)：
B24B37/00
, B24B49/04
, G03F1/08
, G03F1/14
, H01L21/027
B24B37/00
, B24B49/04 Z
, G03F1/08 A
, G03F1/14 B
, H01L21/30 502P
, H01L21/30 531M
2H095BB01
, 2H095BC27
, 3C034AA13
, 3C034AA19
, 3C034BB93
, 3C034CA04
, 3C034CB18
, 3C058AA07
, 3C058AA11
, 3C058AA16
, 3C058AC02
, 3C058CA01
, 3C058CB01
, 5F046GD04
, 5F046GD13
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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