特許
J-GLOBAL ID：200903038258433761
気相成長装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中沢 謹之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-169831
公開番号（公開出願番号）：特開平5-326425
出願日： 1992年05月18日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【目的】 ガスを基板の表面に吹き付けるのに使用するフローチャンネルにガスによるゴミが付着したとき、そのコミを簡単に除去できるようにすることを目的とする。【構成】 フローチャンネルを、リアクタに固定された固定チャンネルと、この固定チャンネル部の先端に着脱自在に取り付けられた補助チャンネルとによって構成する。補助チャンネルは、外部からの操作によって、サセプタと、このサセプタ上に基板を搬送するのに使用する搬送機構により、固定チャンネルに着脱する。
請求項（抜粋）：
リアクタの内部に、基板、前記基板を保持するサセプタ、原料であるガスを加熱されている前記基板の表面に導入するフローチャンネルを具備するとともに、前記サセプタを前記リアクタの内部に搬送する搬送機構を備えてなる気相成長装置において、前記フローチャンネルを、前記リアクタに固定された固定チャンネルと、前記固定チャンネル部の先端に着脱自在に取り付けられた補助チャンネルとによって構成し、前記補助チャンネルを、前記サセプタと、このサセプタ上に前記基板を搬送するのに使用する搬送機構によって、前記固定チャンネルに着脱するようにしてなる気相成長装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, C23C 14/22
, C30B 25/14
