特許
J-GLOBAL ID:200903038259613097

積層導電膜、電気光学表示装置及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 家入 健
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-282687
公開番号(公開出願番号):特開2009-111201
出願日: 2007年10月31日
公開日(公表日): 2009年05月21日
要約:
【課題】ITO等の酸化物透明導電膜の上に直接、光反射率が高いAl系合金膜を成膜した欠陥のない積層導電膜を提供すること。【解決手段】本発明の一態様に係る積層導電膜は、光透過性を有する透明導電膜と、前記透明導電膜上に直接積層して形成され、前記透明導電膜との界面近傍に窒素原子、酸素原子の少なくとも1種類以上を含むことにより、前記透明導電膜に電気的に接続されるAl又はAlを主成分とするメタル導電膜とを有する。また、メタル導電膜は、透明導電膜との界面近傍にさらに周期律の8族元素のFe、Co、Ni、4b族元素のC、Si、Geから選ばれる少なくとも1種類以上の原子を含む。【選択図】図4
請求項(抜粋):
光透過性を有する透明導電膜と、 前記透明導電膜上に直接積層して形成され、前記透明導電膜との界面近傍に窒素原子、酸素原子の少なくとも1種類以上を含むことにより、前記透明導電膜に電気的に接続されるAl又はAlを主成分とするメタル導電膜と、 を有する積層導電膜。
IPC (6件):
H01L 21/320 ,  H01L 23/52 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G02F 1/136 ,  H01L 29/786
FI (8件):
H01L21/88 R ,  G02F1/1335 520 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/88 N ,  H01L29/78 612C ,  H01L29/78 616U ,  H01L29/78 616V
Fターム (79件):
2H091FA16Y ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FD04 ,  2H091GA03 ,  2H091GA07 ,  2H091GA13 ,  2H091JA03 ,  2H091LA12 ,  2H092GA13 ,  2H092GA19 ,  2H092GA29 ,  2H092HA04 ,  2H092HA05 ,  2H092JA24 ,  2H092JA46 ,  5F033HH09 ,  5F033HH10 ,  5F033HH17 ,  5F033HH35 ,  5F033HH38 ,  5F033JJ01 ,  5F033JJ09 ,  5F033JJ10 ,  5F033JJ35 ,  5F033JJ38 ,  5F033KK01 ,  5F033KK05 ,  5F033LL02 ,  5F033MM05 ,  5F033NN06 ,  5F033PP15 ,  5F033QQ01 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ19 ,  5F033QQ37 ,  5F033QQ53 ,  5F033RR06 ,  5F033RR21 ,  5F033RR27 ,  5F033VV06 ,  5F033VV15 ,  5F033XX10 ,  5F110AA16 ,  5F110AA26 ,  5F110BB01 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110EE02 ,  5F110EE04 ,  5F110EE44 ,  5F110FF03 ,  5F110FF29 ,  5F110GG02 ,  5F110GG15 ,  5F110GG24 ,  5F110GG44 ,  5F110HK04 ,  5F110HK09 ,  5F110HK16 ,  5F110HK21 ,  5F110HK25 ,  5F110HK33 ,  5F110HK34 ,  5F110HL03 ,  5F110HL06 ,  5F110HL07 ,  5F110HL10 ,  5F110HL11 ,  5F110HL23 ,  5F110NN03 ,  5F110NN04 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN36 ,  5F110NN40 ,  5F110QQ01 ,  5F110QQ09
引用特許:
出願人引用 (7件)
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