特許
J-GLOBAL ID：200903038262071220
培養装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-151963
公開番号（公開出願番号）：特開平5-000077
出願日： 1991年06月24日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 半永久的にガスを発生できるPSA方式等のガス発生器を補助ガス供給装置として培養庫に連結できるようにして、従来の予備ガスボンベを不要とし、予備ガスボンベの定期的な残量チェックという面倒な作業を廃止して、使用性に優れた培養装置を提供する。【構成】 培養庫1に形成された培養室2内を所定のガス濃度に制御する培養装置において、主ガス供給源3,7と、培養室を主経路8で連通し、補助ガス供給装置11と培養室を補助経路12で連通し、両経路8,12に電磁弁10,13を設ける。主経路に設けた圧力センサー5,9と培養室内のガス濃度を検出する濃度センサー15,16からの信号に基づき培養室内を所定のガス濃度に制御する一方、圧力センサー5,9からの信号に基づき補助ガス供給装置を運転制御すると共に電磁弁を制御する制御装置17とを備え、これから補助ガス供給装置に信号を出力するための外部出力端子14を培養庫に設けた。
請求項（抜粋）：
培養庫に形成された培養室内を所定のガス濃度に制御する培養装置において、主ガス供給源と、この主ガス供給源と前記培養室を連通する主経路と、補助ガス供給装置と、この補助ガス供給装置と前記培養室を連通する補助経路と、両経路にそれぞれ設けた主流通制御手段と補助流通制御手段と、前記培養室内のガス濃度を検出する検出手段と、前記主ガス供給源の空を検知する検知手段と、前記検出手段からの信号に基づき培養室内を所定のガス濃度に制御する一方、検知手段からの信号に基づき補助ガス供給装置を運転制御すると共に前記両流通制御手段を制御する制御装置とを備え、この制御装置から補助ガス供給装置に信号を出力するための外部出力端子を培養庫に設けたことを特徴とする培養装置。
IPC (3件)：
C12M 3/00
, C12M 1/04
, C12M 1/36
