特許

J-GLOBAL ID：200903038270311337

プラズマ処理装置及び該装置を用いたプラズマ処理方法

発明者： 中村 誠一 ,  久田 正浩
出願人/特許権者： 住友金属工業株式会社
代理人 (1件)： 井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-060603
公開番号（公開出願番号）：特開平7-273086
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【構成】 少なくともプラズマ生成室11の内部にプラズマ生成室11の壁面と接触しない高純度アルミニウム製の内筒管21を備えているプラズマ処理装置。【効果】 内筒管21によりプラズマ生成室11側壁にプラズマ反応生成物が付着するのを防止することができ、試料61bの汚染を防止することができる。また内筒管21は熱容量が小さく、熱伝導による放熱が少ないため、プラズマの発生により内筒管21を200°C以上の所定温度に昇温・保持させることができ、したがってエッチングのベースガスとして炭素比率が高いフッ素炭素ガスを用いるプロセスの適用を容易にすることができ、下地Si膜に対する選択比やフォトレジスト膜に対する選択比をより向上させることができる。

請求項（抜粋）：

プラズマを発生させるプラズマ生成室と、生成したプラズマを用いて試料に処理を施す試料室とを備えたプラズマ処理装置において、少なくとも前記プラズマ生成室の内部に該プラズマ生成室の壁面と接触しない高純度アルミニウム製の内筒管を備えていることを特徴とするプラズマ処理装置。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-363021
  
• 特開昭63-221623
  
• 特開平4-363021
  
• 特開昭63-221623