特許
J-GLOBAL ID:200903038274368317

インジウム-スズ酸化物膜の高抵抗化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 東海 裕作 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-085973
公開番号(公開出願番号):特開平7-224383
出願日: 1994年03月31日
公開日(公表日): 1995年08月22日
要約:
【要約】【目的】高抵抗な、しかも均一性に優れたITO膜をより効率的に成膜することができる成膜方法を提供する。【構成】酸素の含有する雰囲気下で、ITO成膜を200°C以上の温度にて加熱処理する方法。【効果】特にタッチパネル用途に最適な、均一性に優れた200Ω/□〜3000Ω/□、リニアリティ値±2%以内のITO膜を得ることができる。
請求項(抜粋):
インジウム-スズ酸化物膜を、酸素を含有する雰囲気中で200°C以上の温度にて加熱処理することを特徴とするインジウム-スズ酸化物膜の成膜方法。
IPC (5件):
C23C 14/58 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/08 ,  G09F 9/30 339 ,  H01B 1/08
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭58-059509
  • 特許第3355610号
  • 特開昭58-059509
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