特許

J-GLOBAL ID：200903038279730170

光吸収体およびこれを用いた光学機器

発明者： 内田 真司 ,  是永 継博 ,  辻 弘恭 ,  那須 昌吾 ,  能智 紀台 ,  深澤 利雄 ,  栗山 俊寛 ,  松田 祐二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 池内 寛幸 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-253823
公開番号（公開出願番号）：特開平10-153704
出願日： 1997年09月18日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 十分な遮光性を有するとともに、従来のものに比して反射率を低減できる光吸収体を提供する。【解決手段】 光学ガラス基板11の表面に厚さ40nmのクロム膜12、厚さ113nmの二酸化珪素膜13、厚さ5nmのクロム膜14、厚さ113nmの二酸化珪素膜15をこの順に積層する。クロム膜12が外部から基板11へ入射しようとする光を遮断し、クロム膜14がクロム膜12で反射した光を吸収して積層構造膜(光吸収体)の外へ出ていくのを抑制する。積層構造膜(光吸収体)中では各膜を透過する光および隣接膜間の界面で反射する光による多重干渉が起こり、積層構造膜(光吸収体)の外へ出る光が更に低減させられる。

請求項（抜粋）：

入射光を遮蔽するための遮光層と、この遮光層よりも前記入射光の入射側に形成された光吸収層と、この光吸収層と前記遮光層との間に形成された透明層とを含む多層膜を基板上に形成したことを特徴とする光吸収体。

IPC (5件)：

G02B 5/22 ,  B29D 11/00 ,  G02B 5/00 ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28

FI (5件)：

G02B 5/22 ,  B29D 11/00 ,  G02B 5/00 B ,  G02B 5/26 ,  G02B 5/28

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 表示デバイス用反射防止ブラックマトリクス及びその作製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-319838   出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション
• 表示装置用遮光膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-031248   出願人：エイ・ジー・テクノロジー株式会社
• 特開平1-207701